Atomic Layer Deposition of AlF3 Thin Films Using Halide Precursors

Chemistry of Materials

DOI: 10.1021/cm504238f

Miia Mäntymäki, Mikko J. Heikkilä, Esa Puukilainen, Kenichiro Mizohata, Benoît Marchand, Jyrki Räisänen, Mikko Ritala and Markku Leskelä

Click for full article